Nitrure d'indium
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Le nitrure d'indium (InN) est semiconducteur de la famille III-V, tout le le nitrure d'aluminium (AlN) et le nitrure de gallium (GaN). Les semiconducteurs III-V connaissent un intérêt grandissant dans le monde scientifique pour plusieurs raisons
- ils sont robustes,
- possèdent un conductivité thermique élevée
- leur point de fusion est élevé
- ils ont une bande interdite (couramment appelée gap) directe
Ces matériaux sont principalement utilisés dans les cellules photovoltaïques et dans les dispositifs optoélectroniques tels que les diodes électroluminescentes (DEL en français ou LED en anglais pour Light Emitting Diode). L'AlN, le GaN et InN possèdent respectivement des énergies de bandes interdites de 6.2eV[1], 3.4eV[2] et ~0.7eV[3].
Cependant, comme nous allons le voir, le nitrure d'indium reste marginalisé.
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Général | |||||
Formule brute | InN | ||||
Nom IUPAC | Nitrure d'indium | ||||
Numéro CAS | [25617-98-5] | ||||
Apparence | |||||
Propriétés physiques | |||||
Masse moléculaire | |||||
Température de fusion |
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Température de vaporisation |
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Solubilité | |||||
Densité | |||||
Thermochimie | |||||
S0gaz, 1 bar | |||||
S0liquide, 1 bar | |||||
S0solid | |||||
ΔfH0gaz | |||||
ΔfH0liquide | |||||
ΔfH0solide | |||||
Cp | |||||
Chaleur latente de fusion |
N/A | ||||
Chaleur latente de vaporisation |
N/A | ||||
Point critique | |||||
Point triple | |||||
Propriétés électroniques | |||||
bande interdite | |||||
mobilité électronique | |||||
mobilité des trous | |||||
Toxicologie | |||||
Inhalation | |||||
Peau | |||||
Yeux | |||||
Ingestion | |||||
Autres infos | |||||
Unités du SI & CNTP, sauf indication contraire. |
Sommaire |
[modifier] Un matériau III-V étrange
[modifier] Un matériau marginalisé
Alors que l'AlN et le GaN sont des matériaux maintenant bien connus, ce n'est pas le cas de l'InN alors qu'il fait partie de la même famille III-V. On estime les connaissances au sujet de l'InN équivalentes à celles du GaN il y a dix ans ! Il faut savoir qu'actuellement l'InN est créé par épitaxie par jets moléculaires. Or on rencontre de nombreuses difficultés de croissance [4],[5],[6],[7],[8],[9] :
- le manque de substrats possédant un faible désaccord de maille
- une basse température de dissociation de l'InN
- une haute pression de vapeur d'azote en présence d'InN
[modifier] Un matériau III-N anormalement conducteur
Les études sur l'InN ont révélé une conductivité anormalement élevée[10]. Deux hypothèses ont été émises pour expliquer cette conductivité : une oxydation ou un phénomène de courbures de bandes. Chaque hypothèse ayant pour conséquence une accumulation d'électrons en surface. Pour le moment, la piste de la courbure de bande est de loin la plus probable. En 2001, W. Waluckiewicz[11] a introduit un modèle faisant appel à l'énergie de stabilisation de Fermi qui relie les défauts de surface au phénomène d'ancrage (pinning) du niveau d'énergie de Fermi à la surface des semiconducteurs.
[modifier] Propriétés essentielles de l'InN
[modifier] Propriétés cristallographiques
[modifier] Polarités des faces
[modifier] Origine de la polarisation
[modifier] N-face et In-face
[modifier] Propriétés optiques
[modifier] Structure de bandes
[modifier] Variation de l'énergie de bande interdite avec la température
[modifier] Nanocolonnes d'InN
[modifier] Applications technologiques
En combinant du Ga, In et Indium, on peut obtenir une bande interdite variant de 0.7 à 3.4eV. Cette gamme d'énergie couvre le spectre visible. De plus l'énergie de bande interdite est directe. Ce matériau est donc idéal pour l'élaboration de cellules photovoltaïques. Pour ces mêmes raisons, on utilise aussi l'indium dans le composé ternaire InGaN pour la réalisation de diodes électroluminescentes.
[modifier] Notes et références de l'article
- ↑ [But05] : K.S.A. Butcher et T.L. Tansley, Superlattices and Microstructures 38, 1 (2005)
- ↑ [But05]
- ↑ [Lan07] : Languy Fabian mémoire de physique sur la haute conductivité de l'InN
- ↑ [Lan07]
- ↑ J. Grandal et M.A. Sánchez-García, Journal of Crystal Growth 278, 373 (2005)
- ↑ T. Yodo, H. Yona,H. Ando, D. Nosei et Y. Harada, Appl. Phys. Lett. 80, 968 (2002)
- ↑ M. Higashiwaki et T. Matsui, Journal of Crystal Growth 251, 494 (2003)
- ↑ I-h. Ho et G.B. Stringfellow, Appl.Phys.Lett. 69, 2701 (1996)
- ↑ S.X. Li, K.M. Yu, J. Wu, R.E. Jones, W. Walukiewicz, J.W. Ager III, W. Shan, E.E. Haller, Hai Lu,William J. Schaff, Physica B 376, 432 (2006)
- ↑ M. Higashiwaki et T. Matsui, Journal of Crystal Growth 252, 128 (2003)
- ↑ W. Walukiewicz, Physica B 302-303, 123 (2001)